インテルと大日本印刷、将来のマスク技術開発に関する協力関係を延長
インテル コーポレーション（本社：米国カリフォルニア州サンタクララ）と大日本印刷株式会社（本社：東京社長：北島義俊資本金：1,144億円）は、32nm（ナノ・メートル）世代以降の半導体製造プロセスに用いられるマスクの開発に向けて協力関係を延長すると発表しました。両社の協力内容には、光学式露光およびEUV（極紫外線）露光向けの重要なマスク技術の開発が含まれています。
インテルと大日本印刷は2000年以降、180nmから45nmまでの半導体製造プロセスにおけるマスクの開発で緊密に協力してきました。今回の協力関係延長は、従来の関係を継続するとともに、両社共同の取り組みをさらに強化するものです。
国際半導体技術ロードマップ（ITRS）では、光学技術を採用した現行の193nm露光の次世代技術として、EUV露光技術を有力なソリューションとして位置づけています。インテルと大日本印刷の両社は、EUV露光の実現に向けて、適切な時期にマスク技術を提供できるよう注力していきます。
大日本印刷株式会社 専務取締役の高波 光一は「当社は、高品質なマスク製品の提供で高い実績があり、マスク製造プロセスについて広範な知識を有しています。インテルとの協力関係の延長と拡大により、将来のチップ製造に対応した最先端のマスク技術の開発を効率的に行えるようになります」と述べています。
インテル コーポレーション 副社長 兼 技術製造統括本部長のビル・ホルトは「大日本印刷とインテルの協力によって、当社がムーアの法則を今後も追求していく上で重要なマスク技術を開発できるようになります。インテルは大日本印刷とこれまで良好な協力関係を築いてきましたが、今回の発表は将来の半導体露光技術に対応する最先端のマスク開発でも協力することを再確認するものです」と述べています。
大日本印刷について
大日本印刷は世界最大の総合印刷会社で、印刷技術を使ったハイテク・マスクの最大手でもあります。
インテルについて
シリコンの技術革新で世界をリードするインテルは、人々の仕事と生活をさらに豊かにする先進的な技術と製品を開発、イニシアティブを推進していきます。インテルに関する情報は、http://www.Intel.co.jpで入手できます。